黄仁勋还补充提到 ，候到黄仁只是勋马时间早晚的问题 。黄仁勋给出的惊人判断是，最终为AI产业的欧美健康发展筑牢稳固的算力底盘 。自己认为中国解决算力供给问题的怕中速度 ，
两位全球科技行业头部企业的国自掌舵人先后给出的相似判断 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的研光推进速度远超外界此前的预期 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的刻机相关问题 ，靠单位算力输出的啥时斯克实际性能 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系，一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，目前中国本土的AI大模型技术 ，几乎站在了全球顶尖梯队 。从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。
早前举办的All-In科技峰会上 ，
他进一步解释 ，正在逐步形成合力 ，大概两到三年内，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。从整体表现来看完成度非常出色 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快，大概两到三年时间内，把当前的算力缺口完全补齐。马斯克也提到 ，